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科晶三靶磁控濺射儀

簡要描述:

科晶三靶磁控濺射儀
型號:VTC-600-3HD
產(chǎn)品概述:
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是 新研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

更新時間:2019-12-23

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科晶三靶磁控濺射儀

型號:VTC-600-3HD

產(chǎn)品概述:

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

主要特點:

  • 可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛 
  • 體積小,操作簡便 
  • 真空腔室、真空泵組整機模塊化設(shè)計 ,控制電源為分體式設(shè)計,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整購買需求。 
  • 可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍

磁控濺射頭

  • 儀器中安裝有3個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層
  • 其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
  • 另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材 
  • 靶材尺寸要求:直徑為50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 
  • 可以單獨訂購RF連接線作為備用
  • 設(shè)備包含一臺水冷機,用于靶頭冷卻

載樣臺

  • 載樣臺尺寸:φ140mm(大可放 置4"的基底) 
  • 載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào)) 
  • 載樣臺高可加熱溫度為500℃

真空腔體

  • 真空腔體:φ300 mm×300 mm H,采用不銹鋼制作 
  • 觀察窗口:Φ100 mm 
  • 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

氣體流量控制器

  • 儀器內(nèi)部安裝有2個質(zhì)量流量計,量程為:0-100sccm 
  • 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作 
  • 此系統(tǒng)運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含)

真空系統(tǒng)

  • 配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)(德國制作) 
  • 標準5E-5mbar 極限7.4E-6mbar

薄膜測厚

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝 在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 Å
  • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

產(chǎn)品外形尺寸

  • L1300mm×W660mm H1200mm 
  • 凈重:160 kg

科晶三靶磁控濺射儀

型號:VTC-600-3HD

質(zhì)量認證:CE認證

使用提示

  • 此設(shè)備為DIY設(shè)備,參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細溝通 
  • 為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N) 
  • 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 
  • 要達到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面 
  • 超聲波清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥 (4)真空烘箱除去水分。 
  • 等離子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物。
  • 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

警示

  • 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體 
  • 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用 
  • 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

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